«Новые Кремневые Технологии» ООО
ООО «Новые Кремневые Технологии»
Генеральный директор Лукьянов Андрей Витальевич
В 2008-2009 годах ООО «Новые Кремневые технологии», был разработан метод и создано опытное производство, позволяющее выращивать на стандартных пластинах кристаллического кремния слой карбида кремния толщиной от десятой доли до нескольких десятков микрон.
Организация ООО «НКТ» создана в августе 2008 года для подачи заявки в «Роснано» в январе 2010 года в заявке было отказано экспертной комиссией с участием отечественных и зарубежных клиентов по причине 62% готовности. В 2011 году ООО «НКТ» стала участником фонда «Сколково» и в том же году получила грант в размере 23 800 000 рублей. В 2013 году ООО «НКТ» успешно отчиталась об исполнении работ по проекту и расходовании средств.
Продукция предприятия
- Стабильно в лабораторных условиях выращиваются пластины низкодефектного карбида кремния толщиной 50-250 нм следующих политипов карбида кремния 3C-SiC , 4H-SiC на подложках кремния диаметром 1,5дюйма. Пластины наномасштабного карбида кремния политипов 3C, 4H, 6H на подложках кремния диаметра 1,5 дюйма
- На пластинах SiC стабильно получаются слои нитрида алюминия (AlN), т.е слои типа AlN/SiC/Si с толщиной AlN 1- 50 мкм диаметром 1,5 дюйма.
- На пластинах SiC стабильно получаются гетероструктуры нитрида галлия (GaN/AlN/SiC/Si) с толщиной 1- 50 мкм диаметром 1,5 дюйма. Плотность дислокаций несоответствия в слое GaN ниже 107 см2, что позволяет их использовать при создании транзисторов, светодиодов и др. электронных устройств.
- Полуширина рентгеновской кривой качания в показателях FWHM – ω-θ ≈ 800- 1500 arcsec, в показателях FWHM – ω-2θ ≈100-200 arcsec на толщине, не превышающей 150 нм, что является лучшим в мире показателем,
Достижения
Проект ООО «НКТ» в 2014 г стал победителем на конкурсе «Регионы - устойчивое развитие».
На наших пластинах можно выращивать нитридные структуры минуя промежуточные слои-что удешевляет в разы производство и придает дополнительные качественные характеристики полученным таким образом нитридных структур, прежде всего нитридов галлия и нитридов
Контактная информация
Адрес: 195027, г. Санкт-Петербург, Магнитогорская ул. дом 51 лит.З.
Тел. +7 (812) 320-23-19
Эл. почта: sviatofis@mail.ru
Сайт: http://www.ooo-svetloe.ru